TSMC vive una pesadilla en Arizona: se gastará 20.000 millones más en una fábrica con escasa agua y mano de obra
La expansión de la fábrica de semiconductores de Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) en Arizona continúa avance tras avance. Ayer, durante una reunión del consejo de administración, se aprobó un aumento presupuestario adicional de 20.000 millones de dólares para la planta que actualmente es la más avanzada de las existentes en Estados Unidos. Este proyecto forma parte de un plan global más amplio de expansión valorado en 165.000 millones de dólares, presentado por TSMC el año pasado.
La puesta en marcha de esta fábrica estuvo marcada por diversos contratiempos. Según informes, la producción de circuitos integrados inició con un atraso de casi un año debido al desafío de encontrar personal altamente calificado que cumpliera con las necesidades técnicas del proyecto.
A principios de 2025 se reportaron las primeras buenas noticias. La planta estaba en capacidad de producir semiconductores en el nodo litográfico N4, perteneciente a la familia FinFET de 5 nm, y preparada para enviar al primero lote de SoC A16 y SiP S9 a Apple.
En términos financieros, la planta conocida como Fab 21 generó un beneficio de 514 millones de dólares en su primer año de operación, según declaraciones del ministro Yeh Chun-Hsien del Consejo Nacional de Desarrollo de Taiwán. Este rendimiento es significativo teniendo en cuenta que las plantas recién inauguradas tienden a registrar pérdidas durante el primer año.
A pesar de estos avances, la expansión de la planta con un aporte adicional de 20.000 millones de dólares está justificada, especialmente considerando los desafíos que enfrenta TSMC en Arizona. Entre ellos destaca una seria escasez de recursos hídricos.
Arizona es el segundo estado más seco de Estados Unidos, con el desafío añadido de que las fábricas de semiconductores requieren un tipo muy especializado de agua para su operación. Este agua no puede ser la que saldría de nuestros grifos; debe ser pura, libre de cualquier impureza.
La industria exige agua con una resistividad eléctrica mínima de 18,2 megaohmios por centímetro para su uso en los procesos de fabricación de semiconductores. Este estándar es extremadamente exigente y no es sencillo de alcanzar.
El proceso de obtención de agua ultrapura implica múltiples etapas de tratamiento, incluyendo ósmosis inversa, desgasificación al vacío y filtración con membranas especializadas. Este procedimiento consume una gran cantidad de energía y productos químicos, además de producir residuos.
Una sola planta avanzada de semiconductores puede consumir entre 10 y 30 millones de litros de agua ultrapura diariamente, un volumen equivalente al consumo anual de una ciudad con entre 50.000 y 150.000 habitantes.
Además del desafío de obtener agua pura, la fábrica debe contar con sistemas sofisticados para su distribución en tiempo real, ya que esta agua se degrada rápidamente.
